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晶体硅光伏电池设备之湿制程设备

偏方秘方  2020年07月07日  浏览:2 次

Manz为晶体硅的制造提供了创新开发的湿制程方案。第一步包括去磷硅玻璃以及刻蚀除边等制造步骤。在这方面,Manz集团利用了关注湿制程设备制造超过20年的亚智科技相关经验和技术。亚智科技是印制电路板和平板显示器制造湿制程设备领域的市场领先者(已经安装了超过2,000台设备),是电子和平板显示器行业的市场领先者。

Manz创新的湿制程设备特点如下:

应用柔软的海绵辊和最小化基板压力概念,实现最低破片率

6个水道配置实现了每小时4,800片的高产量(硅片尺寸:156 156mm)

高度的工艺安全和稳定性

易操作的触摸式图形界面(GUI)

与Manz高度集成的SpeedPicker系统兼容

优化总拥有成本

化学品消耗量更少

随着新的湿制程设备IPSGCEI4800的问世,Manz提供更为完善的制程解决方案,用来去除硅片背面和边缘的重掺杂层,从而形成化学除边(CEI)。在接下来的处理步骤中,将去除硅片正面上剩余的磷硅酸盐玻璃(PSG)层,而该层是在先前的扩散过程中形成的。

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